1나노 경쟁 신호탄 쐈다…인텔 차세대 EUV 장비 설치 완료
전자신문
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04.18 23:00
1나노미터(㎚)대 반도체 구현을 위한 기술 경쟁이 시작됐다. 인텔 파운드리는 18일 미국 오리건주 힐스보로 공장(팹)에 ASML이 만든 ‘하이 NA EUV 장비(트윈스캔 EXE:5000)’를 설치했다고 밝혔다. 하이 NA 장비는 빛 집광 능력을 뜻하는 렌즈 개구수(NA
